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                中芯國際將與ASML談判想引進EUV光刻機?關鍵細節被卡死
                2020-12-19 14:27:35  出處:快科技 作者:雪花 編輯:雪花     評論(0)點擊可以復制本篇文章◥的標題和鏈接

                有消息稱,在新任副董事長蔣尚義的幫助下,中國芯片巨頭中芯國際將尋求與荷蘭半導體設備公司阿斯麥(ASML)就EUV光●刻設備進行談判。

                報道稱,中芯國際一直難以從阿斯麥獲得EUV光刻設備,盡管阿斯麥在▓法律上不受某些約束條没想到次派出件的影響,但仍存顧慮。

                對於中芯國際引入EUV (極紫外光源)光刻機事转为一种惊讶情》,目前上市不被允許的,而ASML之前已經證實。

                ASML CFO Roger Dassen表示,如果廣泛的來理解其規章制度對ASML的總體含義←(對於特定的中雪魔女身体前國客戶),則意味著ASML將能夠從荷蘭向這些中國客戶提供▅DUV光刻系統,且無需出口許同时向着前面移去可證,但是EUV (極紫外光源)光刻機是沒有機會的。

                2018年4月,中芯國際向ASML訂購了╱一臺 EUV 光刻機,價值1.2億美元(約合人民幣8億元),預計2019年年初交貨。後來此事被報道後,ASML回應稱,對包括中國客戶在♂內的全球客戶都一視同仁,且向中國出售EUV光刻機並沒ω 有違反《瓦森这两个美女很养眼納協定★》。當時,荷蘭政府的確向 ASML 發放了出口許可證。

                不過,最終這』個交易也沒有形成,此後,關於 EUV 光刻機向中國出口几个闪落,ASML 的官方說法一直是:公司仍在等待新許可證申請的批準。

                目前的光刻機主要分〓為EUV光刻機和DUV光刻機。DUV光刻機,分為幹分式與液浸式兩〓種。其中,液浸式於ASML手中誕生,其波長雖然有193nm,但等效為134nm,經過︾多重曝光後,液浸式光刻機也能夠達到7nm工藝。但是,每多一次曝光都會使得制造成本大大提升,而且良品率也難以控〓制。

                EUV光刻機采∏用13.5nm波長的以逸待劳光源,是突破10nm芯片制程節點必不可少的工具。也就是說,就算DUV(深紫外線)光刻機能從尼康、佳能那裏找到替代,但如果㊣ 沒有ASML的EUV光刻機,芯片巨頭臺積電、三星、Intel的5nm產線就無法投◤產。

                為爭取EUV光刻機供貨:三星掌門人李在镕親赴ASML荷蘭總↑部遊說

                - THE END -

                轉載請註△明出處:快科技

                #阿斯麥#光刻機

                責任編輯:雪花

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